Pada pameran perdagangan yang lalu, Meiden Nanoprocess Innovation Corporation telah mempamerkan produk baru mereka, Pure Ozone Generator & Surface Modification Coating System. Syarikat ini telah mengkaji dan mengembangkan teknologi ozon selama 20 tahun terakhir. Produk mereka adalah generator ozon murni yang sangat pekat.
Pada demo produk, Meiden Nanoprocess Innovation menjelaskan bahawa mereka dapat menghasilkan radikal OH dengan mudah dengan mencampurkan gas etilena dan ozon murni. Radikal OH ini digunakan untuk memproses permukaan, terutamanya dalam aplikasi seperti modifikasi, pembanjiran, pra-perawatan untuk pengikatan, dan perlakuan lain yang cepat, bebas kerosakan, dan stabil. Aplikasi utama teknologi ini adalah perlakuan permukaan bagi semikonduktor, teknologi pengikatan, kaca, dan bahan asas lain.
Kelebihan penggunaan ozon murni adalah suhu yang rendah dan boleh digunakan dalam pelbagai aplikasi. Dalam hal pengeposan filem, teknologi ozon mereka membolehkan pengeposan pada suhu rendah, dari suhu bilik hingga 150°C. Selain itu, gas ozon murni mereka dapat menembusi ke dalam lembah mikro. Penetrasi yang mendalam ini membolehkan pertumbuhan filem dengan tingkat penetrasi yang tinggi. Aplikasi utama teknologi ini adalah semikonduktor dan bahan asas tahan suhu rendah seperti filem dan kaca.
Meiden Nanoprocess Innovation dapat melakukan perlakuan permukaan dan pengeposan filem menggunakan ozon murni mereka, jadi sila hubungi mereka jika anda berminat. Produk ini menawarkan peluang baru dalam bidang pengolah permukaan dan aplikasi bahan asas.Generated by OpenAI
laman web:https://www.meidensha.co.jp/npi/
